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小型真空懸浮熔煉爐

小型真空懸浮熔煉爐

所屬分類:真空懸浮爐

產(chǎn)品型號:KZGXF-0.5

更新時間:2023-04-10

描述:小型真空懸浮熔煉爐充分利用電磁感應(yīng)原理,采用磁懸浮IGBT電源,配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝,懸浮效果好,專門應(yīng)用于高熔點難熔金屬,活潑金屬等冶煉提純。

詳細(xì)信息

小型真空懸浮熔煉爐是在真空條件下或保護(hù)氣氛條件下對金屬材料進(jìn)行熔煉處理。利用電磁力使?fàn)t料半懸浮,熔池與坩堝壁保持非接觸,使?fàn)t料不受坩堝材料的污染。有效的用于活潑金屬、高熔點金屬及其合金的熔煉。配有真空泵系統(tǒng),用于在加熱前抽出爐膛內(nèi)的氧氣。為了保證盡可能低的氧含量,使?fàn)t罐內(nèi)有純凈的氣氛或者真空環(huán)境。在氧氣的含量盡可能被降低后,通入惰性氣體至微負(fù)壓或者真空環(huán)境,熔煉工藝啟動。

設(shè)備特點

1·真空磁懸浮熔煉,料與坩堝無接觸冶煉,干凈無污染。

2·冶煉溫度高,溫度可達(dá)2500甚至以上,專門應(yīng)用于高熔點難熔金屬,活潑金屬等冶煉提純。

3·采用磁懸浮IGBT電源,配合自助研發(fā)的水冷分瓣銅坩堝,懸浮效果好。

4·采用兩級分子泵控制系統(tǒng)真空度高,可達(dá)5.0*10-5pa。

小型真空懸浮熔煉爐主要技術(shù)參數(shù)

1、額定功率:100Kw

2、容量(以鈦計):0.5Kg

3、輸入電源:3 相、 380 ± 10 %、 50Hz

4、冷態(tài)極限真空度:6.67×10E-4Pa

5·坩堝尺寸:D90*50

6.控制方式:plc+模擬屏

應(yīng)用領(lǐng)域:

1·材料科研工作

2·活潑金屬、難熔金屬、稀貴金屬及合金的制備

3·用于純度要求特別高的金屬和合金的制備

4·用于成分精度要求特別高的合金和金屬間化合物的制備

5·對材料純度、成分精度性和均勻性要求高,期望排除雜質(zhì)和其他

 

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